[发明专利]等离子体处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及利用等离子体化的处理气体进行被处理基板的等离子体处理的等离子体处理装置。

背景技术

在液晶显示装置(LCD)等平板显示器(FPD)的制造工序中，存在对作为被处理基板的玻璃基板供给等离子体化了的处理气体来进行蚀刻处理和成膜处理等的等离子体处理的工序。这些等离子体处理中使用等离子体蚀刻装置和等离子体CVD装置等各种等离子体处理装置。近年来，作为将处理气体等离子体化的方法，具有能够以高真空度获得高密度的等离子体这样的重大优点的电感耦合等离子体(Inductively Coupled Plasma：ICP)受到关注。

另一方面，玻璃基板的尺寸在逐步大型化。对于例如LCD用的状玻璃基板，需要能够处理短边×长边的长度为约2200mm×约2400mm、甚至约2800mm×约3000mm的尺寸的等离子体处理装置。

伴随等离子体处理装置的大型化，配置于玻璃基板的上方侧且与使上述电感耦合等离子体产生的等离子体天线相对地设置的电介质窗也大型化。然而，构成电介质窗的石英等电介质材料机械强度小而脆，因而不适合于大型化。因此，专利文献1中记载了具有比石英刚性高的金属制的金属窗的等离子体处理装置。

这里，为了隔着金属窗使电感耦合等离子体产生，需要在与构成等离子体处理装置的主体的金属制的处理容器绝缘的状态下安装金属窗。此外，对构成成为真空气氛的处理空间的上述金属窗，不仅施加其自身重量还施加大气压，因此必须支承金属窗，使其能够承受这些力。因而，伴随金属窗的大型化，存在连将该金属窗安装于处理容器的机构也大型化、大重量化的问题。

这里，在专利文献2中记载了一种激光退火装置，其通过在对玻璃基板进行照射激光的改性处理的处理腔室的上部盖部件设置增强其机械强度的肋部件，抑制了使激光透过的窗部件的倾斜或挠曲的产生。此外，专利文献3中记载了在进行FPD用玻璃基板的处理的真空处理装置的腔室部的外壁面设置包括肋部件和与肋部件接合的板状接合部件的、通过螺栓能够相对于上述外壁面拆卸的增强部件。

但是，这些专利文献2、3均没有公开在维持与处理容器绝缘的状态的同时设置大型的金属窗的方法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-227427号公报：段落0018、图1

专利文献2：日本特许第3451478号公报：段落0002、0018、图1、2

专利文献3：日本特许第5232801号公报：段落0028～0029、图3

发明内容

发明想要解决的技术问题

本发明是在这种情形下完成的，其目的在于提供一种在保持机械强度的同时利用轻量的机构安装有金属窗的等离子体处理装置。

解决技术问题的技术方案

本发明的等离子体处理装置是对进行了真空排气的处理空间内的被处理基板执行利用等离子体化了的处理气体进行的等离子体处理的等离子体处理装置，上述等离子体处理装置的特征在于，包括：

具有用于载置上述被处理基板的载置台，与该载置台相对的上表面开口并且电接地的金属制的处理容器；

配置于封闭上述处理容器的开口的位置而形成上述处理空间，并且以隔着绝缘部件与上述处理容器绝缘的状态设置的导电性的金属窗；

在上述金属窗的上方侧以与该金属窗相对的方式设置的，用于通过电感耦合将上述处理气体等离子体化的等离子体天线；

金属窗支承机构，其包括：以与上述金属窗相对的方式配置于等离子体天线的上方侧的顶板部和设置于该顶板部的用于悬挂支承上述金属窗的多个第一悬挂部；和

骨架结构的顶板支承机构，其包括：设置有用于从上方侧悬挂支承上述顶板部的多个第二悬挂部的横架部和用于支承上述横架部的脚柱部。

上述等离子体处理装置也可以具有以下的结构。

(a)上述金属窗被分割为多个部分窗，相邻的部分窗彼此隔着绝缘部件相互绝缘。将上述处理容器与金属窗绝缘的绝缘部件和将该金属窗的相邻部分窗彼此绝缘的绝缘部件由上述处理容器支承。

(b)上述脚柱部设置在上述开口的周围的处理容器上。

(c)上述顶板部是电接地的金属制部件，上述第一悬挂部具有将上述金属窗与顶板部绝缘的绝缘部件。上述顶板支承机构的横架部和脚柱部是与上述顶板部相比导电性低、机械强度高的金属制部件。

(d)上述横架部形成为拱形形状。

(e)上述金属窗兼作为向上述处理空间供给处理气体的气体喷头。

发明效果