[发明专利]一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统有效
| 申请号： | 201610045320.8 | 申请日： | 2016-01-22 |
| 公开（公告）号： | CN105549345B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 冯彦贵;熊正平;沈祥凯;田利军 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 11291 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人： | 黄志华<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统，在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定被喷淋基板相对于喷头的相对位移，之后根据设定的喷淋流量与被喷淋基板相对位移之间的对应关系以及被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，最后根据确定出的当前所需的喷淋流量，实时调整喷头当前喷淋的液体流量，使被喷淋基板上单位面积内的液体量保持不变。这样，根据被喷淋基板的相对位移情况实时调整喷头的喷淋流量，可以保证在被喷淋基板上的液体量在单位面积内相对均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 喷淋 控制 方法 装置 系统 | ||
【主权项】：
1.一种喷淋的控制方法，其特征在于，包括：/n在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定所述被喷淋基板相对于所述喷头的相对位移；/n根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量；/n根据确定出的当前所需的喷淋流量，调整所述喷头当前喷淋的液体流量，使所述被喷淋基板上单位面积内的液体量为定值；/n所述喷头喷淋的液体为显影液；/n所述喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系包括：与不同的显影速度一一对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线；/n其中，根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，具体包括：/n确定当前设定的显影速度；/n根据所述当前设定的显影速度，确定对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线；/n根据所述被喷淋基板的相对位移，按照显影流量与被显影基板相对位移曲线，确定当前所需的喷淋流量。/n
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