[发明专利]一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统

权利要求书

1.一种喷淋的控制方法，其特征在于，包括：

在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定所述被喷淋基板相对于所述喷头的相对位移；

根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量；

根据确定出的当前所需的喷淋流量，调整所述喷头当前喷淋的液体流量，使所述被喷淋基板上单位面积内的液体量为定值；

所述喷头喷淋的液体为显影液；

所述喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系包括：与不同的显影速度一一对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线；

其中，根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，具体包括：

确定当前设定的显影速度；

根据所述当前设定的显影速度，确定对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线；

根据所述被喷淋基板的相对位移，按照显影流量与被显影基板相对位移曲线，确定当前所需的喷淋流量。

2.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于，所述被喷淋基板与所述喷头之间发生相对运动，具体包括：

所述喷头处于静止状态，所述被喷淋基板相对于所述喷头发生移动；或，

所述被喷淋基板处于静止状态，所述喷头相对于所述被喷淋基板发生移动。

3.如权利要求1所述的控制方法，其特征在于，还包括：

间隔设定时间，获取已显影基板中各位置处的线宽值；

针对每个位置处，在确定所述线宽值与基准值之差的绝对值大于预设值时，校正设定的所述显影流量与所述被显影基板相对位移曲线。

4.如权利要求3所述的控制方法，其特征在于，所述校正设定的所述显影流量与所述被显影基板相对位移曲线，具体包括：

当确定所述线宽值大于所述基准值与所述预设值之和时，根据所述线宽值与基准值之差的绝对值，上调与所述线宽值所处位置对应的所述被显影基板相对位移对应的所述显影流量；

当确定所述线宽值与所述预设值之和小于所述基准值时，根据所述线宽值与基准值之差的绝对值，下调与所述线宽值所处位置对应的所述被显影基板相对位移对应的所述显影流量。

5.如权利要求1-4任一项所述的控制方法，其特征在于，所述喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系为：

在所述被喷淋基板与所述喷头之间发生匀速相对运动时，所述喷淋基板相对于所述喷头位移越远所述喷淋流量越小。

6.一种喷淋的控制装置，其特征在于，包括：位移传感器，用于在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定所述被喷淋基板相对于所述喷头的相对位移；

处理器，用于根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，其中，所述喷头喷淋的液体为显影液，所述喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系包括：与不同的显影速度一一对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线，确定当前设定的显影速度，根据所述当前设定的显影速度；且，根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，具体包括：确定对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线，并根据所述被喷淋基板的相对位移，按照显影流量与被显影基板相对位移曲线，确定当前所需的喷淋流量；

流量控制器，用于根据确定出的当前所需的喷淋流量，调整所述喷头当前喷淋的液体流量，使所述被喷淋基板上单位面积内的液体量为定值。

7.一种喷淋系统，其特征在于，包括：至少一个具有喷头的喷淋构件，以及如权利要求6所述的喷淋的控制装置。