[发明专利]一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统

说明书

本发明公开了一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统，在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定被喷淋基板相对于喷头的相对位移，之后根据设定的喷淋流量与被喷淋基板相对位移之间的对应关系以及被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，最后根据确定出的当前所需的喷淋流量，实时调整喷头当前喷淋的液体流量，使被喷淋基板上单位面积内的液体量保持不变。这样，根据被喷淋基板的相对位移情况实时调整喷头的喷淋流量，可以保证在被喷淋基板上的液体量在单位面积内相对均匀。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统。

背景技术

随着半导体显示技术的逐渐发展，以及人们对高分辨率(PPI)产品的需求，显示产品在制作时的控制精度的要求越来越高，其中对于决定显示产品的精细程度的线宽(CD)的尺寸要求其越来越小，且对CD的控制精度及均一性要求也变得越来越高。

在实际生产过程中，在采用喷头与基板相对运动在基板上喷涂液体，使基板上发生反应的这种制作方式，由于在喷涂过程中基板与喷头的相对运动致使在基板上单位面积内液体量不均匀的问题。

例如：在对基板上的光刻胶进行显影采用喷头喷涂显影液时，曝光后的基板在显影单元传送过程中，显影液从上方固定的喷头处喷洒下来，如图1所示，基板100向前方(指向右边的箭头方向)移动时，由于惯性作用显影液喷洒到基板100后会向后方(与箭头相反的方向)流动，造成基板100后侧单位面积内与光刻胶发生中和反应的显影液量比前侧的多，导致之后在基板后侧形成的线宽z比前侧的线宽小，而在基板100后侧形成的过孔(Hole)比前侧的过孔大。这样会造成线宽不均匀的问题，导致难以控制基板上形成的线宽的均一性，而制约了显示产品高分辨率的发展。

发明内容

有鉴于此，本发明实施例提供了一种喷淋的控制方法、其装置及喷淋系统，用以解决采用现有的喷淋方式进行喷淋后在被喷淋基板上的液体量在单位面积内不均匀的问题。

因此，本发明实施例提供的一种喷淋的控制方法，包括：

在被喷淋基板与喷头之间发生相对运动时，实时确定所述被喷淋基板相对于所述喷头的相对位移；

根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量；

根据确定出的当前所需的喷淋流量，调整所述喷头当前喷淋的液体流量，使所述被喷淋基板上单位面积内的液体量为定值。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述控制方法中，所述被喷淋基板与所述喷头之间发生相对运动，具体包括：

所述喷头处于静止状态，所述被喷淋基板相对于所述喷头发生移动；或，

所述被喷淋基板处于静止状态，所述喷头相对于所述被喷淋基板发生移动。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述控制方法中，所述喷头喷淋的液体为显影液。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述控制方法中，所述喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系包括：与不同的显影速度一一对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述控制方法中，根据设定的喷淋流量与所述被喷淋基板相对位移之间的对应关系，以及所述被喷淋基板的相对位移，确定当前所需的喷淋流量，具体包括：

确定当前设定的显影速度；

根据所述当前设定的显影速度，确定对应的显影流量与被显影基板相对位移曲线；

根据所述被喷淋基板的相对位移，按照显影流量与被显影基板相对位移曲线，确定当前所需的喷淋流量。