[发明专利]真空镀膜设备与单质薄膜的镀制方法有效
| 申请号： | 201610027810.5 | 申请日： | 2016-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN106978583B | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 于甄;解金库;高建聪 | 申请（专利权）人： | 张家港康得新光电材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/14;C23C14/22 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 赵囡囡;吴贵明 |
| 地址： | 215634 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本申请提供了一种真空镀膜设备与单质薄膜的镀制方法。该真空镀膜设备包括用于放置基片的载台，真空镀膜设备还包括：至少一个掩板，当进行镀制作业时，各掩板设置在载台的放置基片的表面上，掩板用于掩盖基片的非镀制目标区域并暴露出基片的镀制目标区域。应用该真空镀膜设备，可以在单质薄膜的表面上形成表面积比其表面积大的保护膜，进而可以防止大气进入单质薄膜，避免单质薄膜的失效。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 设备 单质 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
一种真空镀膜设备，包括用于放置基片的载台(1)，其特征在于，所述真空镀膜设备还包括：至少一个掩板(2)，当进行镀制作业时，各所述掩板(2)设置在所述载台(1)的放置所述基片的表面上，所述掩板(2)用于掩盖所述基片的非镀制目标区域并暴露出所述基片的镀制目标区域。
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