[发明专利]一种电润湿制备工艺过程中基板表面残留物的检测方法有效
| 申请号： | 201610015667.8 | 申请日： | 2016-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN105467578B | 公开（公告）日： | 2018-03-02 |
| 发明（设计）人： | 周国富;吴昊;李发宏;罗伯特·安德鲁·海耶斯 | 申请（专利权）人： | 深圳市国华光电科技有限公司;深圳市国华光电研究院;华南师范大学 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G03F7/00 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人： | 唐致明 |
| 地址： | 518110 广东省深圳市龙华新区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电润湿制备工艺过程中基板表面残留物的检测方法，通过在非器件区域设置若干测试区域，测试区域经过和器件区域同样的处理，作为参照，由于测试区域面积足够，便于测量，这样可以在制备过程中，即时获得基板的表面接触角，得知其表面性质，检测残留物，及时作出处理。从而提高了器件的良率，改善了产品质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 润湿 制备 工艺 过程 中基板 表面 残留物 检测 方法 | ||
【主权项】：
一种电润湿制备工艺过程中基板表面残留物的检测方法，所述电润湿制备工艺包括，在基板表面进行光刻工艺处理的步骤，其特征在于：在基板的非器件区域选取若干区域作为测试区域，测试区域和器件区域经历同样的工艺处理；测量光刻工艺处理前的测试区域的基板表面接触角α1和光刻工艺处理后的基板表面接触角β1，通过比较α1和β1来判断基板表面是否有残留物。
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