[发明专利]低线密度光栅曝光系统在审

专利信息
申请号: 201610014216.2 申请日: 2016-01-11
公开(公告)号: CN105607432A 公开(公告)日: 2016-05-25
发明(设计)人: 周红艳;盛斌;黄元申;倪争技;陈鹏 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/18
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种低线密度光栅曝光系统,涉及光学系统技术领域,所解决的是全息光栅小角度近距离曝光的技术问题。该系统包括激光发射器、分束镜、第一反光镜、第二反光镜、镀膜板;所述镀膜板是一透明平板玻璃,镀膜板的正面贴附有增透膜,镀膜板的反面贴附有半透半反膜,并且半透半反膜的反射面朝外;该系统具有一个曝光工位,该系统的光路结构为:从激光发射器出发后进入分束镜,再由分束镜分成两条光路,其中的第一条光路从分束镜出发,再穿过镀膜板后到达曝光工位;第二条光路则依次经第一反光镜、第二反光镜射入镀膜板的反面,再由镀膜板反射后到达曝光工位。本发明提供的系统,可用于曝光制作低线密度凹面光栅或平面光栅。
搜索关键词: 密度 光栅 曝光 系统
【主权项】:
一种低线密度光栅曝光系统,其特征在于:包括激光发射器、分束镜、第一反光镜、第二反光镜、镀膜板;所述镀膜板是一透明平板玻璃,镀膜板的正面贴附有增透膜,镀膜板的反面贴附有半透半反膜,并且半透半反膜的反射面朝外;该系统具有一个曝光工位,该系统的光路结构为:从激光发射器出发后进入分束镜,再由分束镜分成两条光路,其中的第一条光路从分束镜出发,再穿过镀膜板后到达曝光工位;第二条光路则依次经第一反光镜、第二反光镜射入镀膜板的反面,再由镀膜板反射后到达曝光工位。
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