[发明专利]低线密度光栅曝光系统在审
申请号: | 201610014216.2 | 申请日: | 2016-01-11 |
公开(公告)号: | CN105607432A | 公开(公告)日: | 2016-05-25 |
发明(设计)人: | 周红艳;盛斌;黄元申;倪争技;陈鹏 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02B5/18 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 一种低线密度光栅曝光系统,涉及光学系统技术领域,所解决的是全息光栅小角度近距离曝光的技术问题。该系统包括激光发射器、分束镜、第一反光镜、第二反光镜、镀膜板;所述镀膜板是一透明平板玻璃,镀膜板的正面贴附有增透膜,镀膜板的反面贴附有半透半反膜,并且半透半反膜的反射面朝外;该系统具有一个曝光工位,该系统的光路结构为:从激光发射器出发后进入分束镜,再由分束镜分成两条光路,其中的第一条光路从分束镜出发,再穿过镀膜板后到达曝光工位;第二条光路则依次经第一反光镜、第二反光镜射入镀膜板的反面,再由镀膜板反射后到达曝光工位。本发明提供的系统,可用于曝光制作低线密度凹面光栅或平面光栅。 | ||
搜索关键词: | 密度 光栅 曝光 系统 | ||
【主权项】:
一种低线密度光栅曝光系统,其特征在于:包括激光发射器、分束镜、第一反光镜、第二反光镜、镀膜板;所述镀膜板是一透明平板玻璃,镀膜板的正面贴附有增透膜,镀膜板的反面贴附有半透半反膜,并且半透半反膜的反射面朝外;该系统具有一个曝光工位,该系统的光路结构为:从激光发射器出发后进入分束镜,再由分束镜分成两条光路,其中的第一条光路从分束镜出发,再穿过镀膜板后到达曝光工位;第二条光路则依次经第一反光镜、第二反光镜射入镀膜板的反面,再由镀膜板反射后到达曝光工位。
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