[发明专利]低线密度光栅曝光系统

说明书

技术领域

本发明涉及光学系统技术，特别是涉及一种低线密度光栅曝光系统的技术。

背景技术

凹面光栅是光谱仪器中的一种重要色散元件，兼有色散和成像功能，可构成只有一个光学作用面的光谱仪器，目前主要应用于摄谱仪、扫描单色仪、直读光谱仪、同位素光谱分析仪等仪器。

利用全息记录技术获得的变间距曲线槽凹面光栅，具有校正像差的能力，与机刻光栅相比，在像差、信噪比和成本方面更具优势。传统的全息凹面光栅都采用双光束曝光系统进行制作，其制作原理是利用双光束的曝光，在涂有光刻胶的基片上形成干涉条纹，通过显影形成刻槽。全息凹面光栅要求两个点光源曝光时具有一定的夹角，并且距离基片有一定的距离。在相对位置处放上透镜小孔系统，形成两个衍射受限球面波进行干涉。但是由于透镜小孔系统的体积所限，两个点光源之间的最小距离是有限的，因此传统的双光束曝光系统无法实现小角度近距离的曝光，也无法实现需要小角度近距离曝光的低线密度光栅的制作。

发明内容

针对上述现有技术中存在的缺陷，本发明所要解决的技术问题是提供一种能实现小角度近距离曝光的低线密度光栅曝光系统。

为了解决上述技术问题，本发明所提供的一种低线密度光栅曝光系统，其特征在于：包括激光发射器、分束镜、第一反光镜、第二反光镜、镀膜板；

所述镀膜板是一透明平板玻璃，镀膜板的正面贴附有增透膜，镀膜板的反面贴附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外；

该系统具有一个曝光工位，该系统的光路结构为：从激光发射器出发后进入分束镜，再由分束镜分成两条光路，其中的第一条光路从分束镜出发，再穿过镀膜板后到达曝光工位；第二条光路则依次经第一反光镜、第二反光镜射入镀膜板的反面，再由镀膜板反射后到达曝光工位。

本发明提供的低线密度光栅曝光系统，利用点光源的虚像来实现与相干光束的小角度曝光，能实现小角度近距离曝光，可用于曝光制作低线密度凹面光栅或平面光栅。

附图说明

图1是本发明实施例的低线密度光栅曝光系统的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图说明对本发明的实施例作进一步详细描述，但本实施例并不用于限制本发明，凡是采用本发明的相似结构及其相似变化，均应列入本发明的保护范围，本发明中的顿号均表示和的关系。

如图1所示，本发明实施例所提供的一种低线密度光栅曝光系统，其特征在于：包括激光发射器1、分束镜2、第一反光镜4、第二反光镜5、镀膜板3；

所述镀膜板3是一透明平板玻璃，镀膜板3的正面贴附有增透膜，镀膜板3的反面贴附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外；

该系统具有一个曝光工位，该系统的光路结构为：从激光发射器1出发后进入分束镜2，再由分束镜2分成两条光路，其中的第一条光路S1从分束镜2出发，再穿过镀膜板3后到达曝光工位；第二条光路S2则依次经第一反光镜4、第二反光镜5射入镀膜板3的反面，再由镀膜板3反射后到达曝光工位。

本发明实施例可用于曝光制作低线密度凹面光栅或平面光栅，制作时将工件6（涂有光刻胶的光栅基材）放置在曝光工位，分束镜分出的两束分光束即聚在工件6上进行干涉，即可利用分束镜分出的两束分光束对工件6进行小角度近距离曝光，调整第二反光镜5的倾斜角度，即可调整两束分光束之间的夹角，可实现不同的曝光角度需求。