[发明专利]用于在材料沉积工艺中承载基板的载体和用于承载基板的方法在审
| 申请号： | 201580083352.0 | 申请日： | 2015-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN108026635A | 公开（公告）日： | 2018-05-11 |
| 发明（设计）人： | 莱内尔·欣特舒斯特 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C16/458;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了用于要在真空处理设施中处理的一个或多个基板的载体(100；320)。所述载体包括：基板支撑部分(110)，用于支撑一个或多个待处理基板，基板支撑部分(110)包括至少一个拐角(111)；和框架(120)，基本上围绕基板支撑部分(110)提供并且包括外缘(121；122；123；124)。框架(120)包括狭缝(130；330)，所述狭缝从基板支撑部分(110)的至少一个拐角(111)延伸到框架(120)的外缘(121；122；123；124)。狭缝(130；330)相对于框架的外缘(121；122；123；124)而倾斜。另外，描述了用于在真空沉积工艺中承载基板的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 材料 沉积 工艺 承载 载体 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于要在真空处理设施(300)中处理的一个或多个基板的载体(100；320)，包括：基板支撑部分(110)，用于支撑一个或多个待处理基板，所述基板支撑部分(110)包括至少一个拐角(111)；和框架(120)，基本上围绕所述基板支撑部分(110)提供并且包括外缘(121；122；123；124)；其中所述框架(120)包括狭缝(130；330)，所述狭缝(130；330)从所述基板支撑部分(110)的所述至少一个拐角(111)延伸到所述框架(120)的所述外缘(121；122；123；124)，并且其中所述狭缝(130；330)相对于所述框架(120)的所述外缘(121；122；123；124)而倾斜。
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