[发明专利]用于涂覆基底表面的喷嘴头和设备有效
| 申请号： | 201580076499.7 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN107406980B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 佩卡·索伊尼宁;奥利·佩科宁 | 申请（专利权）人： | BENEQ有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/54 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 魏彦 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于根据原子层沉积的原理，通过使基底(1、48)的表面(3)经受至少两种前体(A、B；C、D；E、F)的相继表面反应而在基底(1、48)的表面(3)上提供涂覆的喷嘴头(5、40、50)、设备和方法。喷嘴头(5、40、50)包括设置有至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)的输出面(11、45、51)，所述至少两个不同的前体区(A+B、C+D、E+F)被布置成在基底(1)的表面(3)上提供不同的涂覆层(AB、CD、EF)。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基底 表面 喷嘴 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
