[发明专利]光刻图案化工艺和在其中使用的抗蚀剂有效
| 申请号： | 201580070512.8 | 申请日： | 2015-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN107111227B | 公开（公告）日： | 2021-03-23 |
| 发明（设计）人： | S·F·伍伊斯特;O·伊尔迪里姆;G·里斯彭斯;A·O·波利雅科夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/004;G03F7/039 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
公开了一种抗蚀剂组合物，其包括具有有着选自ABX |
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| 搜索关键词： | 光刻 图案 化工 其中 使用 抗蚀剂 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂组合物，包括钙钛矿材料。
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