[发明专利]基材上的阳极氧化层和铝层在审
| 申请号： | 201580059445.X | 申请日： | 2015-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN107075711A | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 吴冠霆;C·卡什亚普;J·常 | 申请（专利权）人： | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
| 主分类号： | C25D11/04 | 分类号： | C25D11/04;C23C24/10;C23C16/02;C23C28/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 赵苏林,杨思捷 |
| 地址： | 美国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文描述的各种实例提供了一种基材或用于制备基材的方法，所述基材包括在基材上的铝层和阳极氧化层。例如，所述基材可以包括基材、在所述基材上形成的连续铝层以及在所述连续铝层上形成的阳极氧化层。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 阳极 氧化 | ||
【主权项】：
一种方法，其包括：在非金属基材上设置铝粉涂层；将激光施加至所述铝粉涂层以在所述非金属基材上形成连续铝层；和在所述连续铝层上形成阳极氧化层。
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