[发明专利]光谱测定方法及光谱测定装置在审

专利信息
申请号: 201580055331.8 申请日: 2015-09-21
公开(公告)号: CN107076613A 公开(公告)日: 2017-08-18
发明(设计)人: 奥野俊明;森岛哲;藤本美代子 申请(专利权)人: 住友电气工业株式会社
主分类号: G01J3/50 分类号: G01J3/50;G01N21/359
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 顾红霞,何胜勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在光谱测定方法中,把来自光源的测量光照射到测量物体上,多个二维排列像素接收由于测量光的照射而从测量物体中发射出的透射光或漫反射光,从而获得多个单元区域的光谱数据,多个单元区域包括测量物体上的至少一个单元区域以及与一个单元区域相邻的单元区域,并且通过对多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据求平均来计算测量物体的光谱数据。此外,光谱测定装置多次(两次以上)成像测量物体的同一单元区域,并通过对从测量物体的多次成像的单元区域中得到的光谱数据进行积分和求平均来计算测量物体的光谱数据。
搜索关键词: 光谱 测定 方法 装置
【主权项】:
一种光谱测定方法,包括:利用来自光源的测量光照射要测量的对象物体;利用多个二维排列像素接收由于利用所述测量光进行照射而从所述对象物体输出的透射光或漫反射光;多次获得多个单元区域中的每一个单元区域的光谱数据,所述多个单元区域包括所述对象物体上的至少一个单元区域以及与所述一个单元区域相邻的单元区域;以及通过对多次获得的所述多个单元区域的所述光谱数据求平均来计算所述对象物体的光谱数据。
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