[发明专利]高分子压电膜在审
| 申请号： | 201580053137.6 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107078207A | 公开（公告）日： | 2017-08-18 |
| 发明（设计）人： | 尾崎胜敏;谷本一洋;佐藤圭祐;天野正己 | 申请（专利权）人： | 三井化学株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/193 | 分类号： | H01L41/193;B29C55/12;C08J5/18;H01L41/09;H01L41/113;H01L41/333;H01L41/45 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 杨宏军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子，对于所述高分子压电膜而言，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与上述结晶度的乘积为40～700，将膜面内的慢轴方向上的折射率设定为nx、将膜面内的快轴方向上的折射率设定为ny、将膜的厚度方向上的折射率设定为nz、并设定Nz系数＝(nx‑nz)/(nx‑ny)时，Nz系数在1.108～1.140的范围内。 | ||
| 搜索关键词： | 高分子 压电 | ||
【主权项】：
高分子压电膜，其包含重均分子量为5万～100万的具有光学活性的螺旋手性高分子，对于所述高分子压电膜而言，利用DSC法得到的结晶度为20％～80％，并且，利用微波透射型分子取向计测得的将基准厚度设定为50μm时的标准化分子取向MORc与所述结晶度的乘积为40～700，将膜面内的慢轴方向上的折射率设定为nx、将膜面内的快轴方向上的折射率设定为ny、将膜的厚度方向上的折射率设定为nz、并设定Nz系数＝(nx‑nz)/(nx‑ny)时，Nz系数在1.108～1.140的范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井化学株式会社，未经三井化学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201580053137.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
