[发明专利]防反射膜、硫属化合物玻璃透镜以及摄像装置

摘要

本发明提供一种耐磨性优异的防反射膜、透镜以及摄像装置。在光学基材的表面成膜碳氢膜，作为以高折射率层发挥功能的第1层。在第1层上成膜折射率低于第1层的折射率的MgF₂膜，作为以低折射率层发挥功能的第2层。通过相同的方法形成包括碳氢膜的第3层、包括MgF₂膜的第4层、包括碳氢膜的第5层。利用RF磁控溅射装置成膜碳氢膜以及MgF₂膜。在成膜碳氢膜时，将氩和氢的混合气体供给至真空槽，将膜中的一部分C‑C键取代为C‑H键。通过C‑H键获得耐磨性以及粘附性优异的低折射率的防反射膜。

主权项

1.一种防反射膜，其形成于基材，从所述基材依次交替重叠有高折射率层和折射率低于所述高折射率层的折射率的低折射率层，其中，所述高折射率层包括在波长10.5μm中的折射率为1.7以上且2.25以下的碳氢膜，所述低折射率层包括氟化金属的化合物膜，并且，所述防反射膜是最上层包括所述碳氢膜的奇数层结构的防反射膜，所述最上层的碳氢膜的含氢率ch在0[at.％]＜ch≤7.5[at.％]的范围内，所述基材包括锗的组成比和硒的组成比的和为60％以上的硫属化合物玻璃，所述防反射膜是从所述基材侧依次为第1层至第5层的5层结构，所述第1层为碳氢膜，光学膜厚在2700nm以上且3100nm以下的范围内，第2层为MgF2膜，光学膜厚在600nm以上且2100nm以下的范围内，第3层为碳氢膜，光学膜厚在300nm以上且1700nm以下的范围内，第4层为MgF2膜，光学膜厚在2200nm以上且3500nm以下的范围内，所述第5层为碳氢膜，光学膜厚在100nm以上且300nm以下的范围内。