[发明专利]气体团簇离子束喷嘴组件

摘要

描述了一种用于执行各种材料的气体团簇离子束(GCIB)蚀刻处理的喷嘴组件。具体地，喷嘴组件包括两个或更多个圆锥形喷嘴，这些圆锥形喷嘴对准成使得它们都用于产生同一GCIB。第一圆锥形喷嘴可以包括最初形成GCIB的喉部，并且第二喷嘴可以形成可附加至第一圆锥形喷嘴的较大圆锥形腔。可以在两个圆锥形喷嘴之间设置过渡区域，该过渡区域可以是大致圆柱形的并且略大于第一圆锥形喷嘴的最大直径。

主权项

1.一种在气体团簇束处理系统中使用的喷嘴组件，所述喷嘴组件包括：供气歧管，所述供气歧管具有至少一个供气管道；第一喷嘴部件，在所述第一喷嘴部件之中，形成至少一个圆锥形喷嘴的第一部分，所述第一部分从第一入口表面处的喷嘴喉部延伸至第一出口表面处的中间出口；第二喷嘴部件，在所述第二喷嘴部件之中，所述至少一个圆锥形喷嘴的第二部分从第二入口表面处的中间入口延伸至第二出口表面处的喷嘴出口，所述第二喷嘴部件还包括凹腔，所述第一喷嘴部件插入到所述凹腔中，使得所述第一出口表面与所述第二入口表面配合，并且所述第一喷嘴部件与所述第二喷嘴部件对准以形成所述圆锥形喷嘴；以及密封构件，所述密封构件设置在所述第一喷嘴部件与所述供气歧管之间，使得在所述第二喷嘴部件附接至所述供气歧管时，所述第一喷嘴部件的所述第一入口表面压靠所述密封构件并且与所述供气歧管围绕所述至少一个供气管道的出口形成密封。