[发明专利]激光刻划沉积在透明基板相对的相应第一和第二表面上的第一和第二导电层的方法有效
| 申请号： | 201580046262.4 | 申请日： | 2015-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN106794549B | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | D·C·米尔恩 | 申请（专利权）人： | 万佳雷射有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/06 | 分类号： | B23K26/06;B23K26/57;B23K103/16 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 吕艳英;张颖玲 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 本申请描述了一种用于对分别沉积在透明基板(11)的相对的第一表面和第二表面(12、13)上的第一导电层和第二导电层(14、14’)进行激光刻划的方法，该方法包括：引导第一激光束(21)通过一个或多个透镜(22)到位于基板(11)的第一表面(12)上的或与基板(11)的第一表面(12)紧邻的焦斑，使得聚焦的激光束(21)穿过第二导电层(14’)和基板(11)的第二表面(13)；沿着与第一激光束(21)的轴线正交的平面中的两个轴线引起第一激光束(21)和基板(11)之间的相对运动，从而在第一导电层(14)中刻划出第一图案；引导第二激光束(21’)通过一个或多个透镜(22’)到位于基板(11)的第二表面(13)上的或与基板(11)的第二表面(13)紧邻的焦斑，使得聚焦的激光束(21’)穿过第一导电层(14)和基板(11)的第一表面(12)，沿着与第二激光束(21’)的轴线正交的平面中的两个轴线引起第二激光束(21’)和基板(11)之间的相对运动，从而在第二导电层(14’)中刻划出第二图案。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 刻划 沉积 透明 相对 相应 第一 第二 表面上 导电 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于对第一透明导电层和第二透明导电层进行激光刻划的方法，所述第一透明导电层和所述第二透明导电层分别沉积在透明基板的相对的第一表面和第二表面上，所述方法包括：引导第一激光束通过一个或多个透镜到位于所述基板的所述第一表面上的或与所述基板的所述第一表面紧邻的焦斑，使得聚焦的激光束穿过所述第二透明导电层和所述基板的所述第二表面；沿着与所述第一激光束的轴线正交的平面中的两个轴线引起所述第一激光束和所述基板之间的相对运动，从而在所述第一透明导电层中刻划出第一图案；引导第二激光束通过一个或多个透镜到位于所述基板的所述第二表面上的或与所述基板的所述第二表面紧邻的焦斑，使得聚焦的激光束穿过所述第一透明导电层和所述基板的所述第一表面；沿着与所述第二激光束的轴线正交的平面中的两个轴线引起所述第二激光束和所述基板之间的相对运动，从而在所述第二透明导电层中刻划出第二图案。
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