[发明专利]使用XPS和XRF技术的多层和多过程信息的前馈在审
申请号: | 201580045322.0 | 申请日: | 2015-06-19 |
公开(公告)号: | CN106574904A | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 希瑟·A·波伊斯;李维迪;劳伦斯·V·博特;迈克尔·C·关;马克·克拉雷;查理斯·托马斯·拉森 | 申请(专利权)人: | 瑞沃拉公司 |
主分类号: | G01N23/22 | 分类号: | G01N23/22;G01N23/223;G01N23/227;G01B15/02 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 梁丽超,陈鹏 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了使用XPS和XRF技术的多层和多过程信息的前馈的方法和系统。在示例中,薄膜表征的方法包括测量用于具有在基底上方的第一层的样品的第一XPS和XRF强度信号。基于第一XPS和XRF强度信号确定第一层的厚度。组合用于第一层的信息和用于基底的信息以估计有效基底。测量用于具有在基底上方的第一层上方的第二层的样品的第二XPS和XRF强度信号。方法还涉及基于第二XPS和XRF强度信号确定第二层的厚度,该厚度考虑了有效基底。 | ||
搜索关键词: | 使用 xps xrf 技术 多层 过程 信息 | ||
【主权项】:
一种薄膜表征的方法,所述方法包括:测量用于具有在基底上方的第一层的样品的第一XPS和XRF强度信号,所述第一XPS和XRF强度信号包括用于所述第一层的信息和用于所述基底的信息;基于所述第一XPS和XRF强度信号确定所述第一层的厚度;组合用于所述第一层的信息和用于所述基底的信息以估计有效基底;测量用于具有在所述基底上方的所述第一层的上方的第二层的样品的第二XPS和XRF强度信号,所述第二XPS和XRF强度信号包括用于所述第二层的信息、用于所述第一层的信息和用于所述基底的信息;并且基于所述第二XPS和XRF强度信号确定所述第二层的厚度,该厚度考虑了所述有效基底。
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