[发明专利]利用相界面反应的反应生成物制备方法及相界面反应装置、以及二次反应生成物制备方法有效
| 申请号： | 201580044876.9 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN106573222B | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 春山哲也 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人九州工业大学;荏原实业株式会社 |
| 主分类号： | B01J19/08 | 分类号： | B01J19/08;B01J19/12;C01C1/04;A61L2/10;A61L2/14;C07C221/00;C07C223/06 |
| 代理公司： | 31267 上海音科专利商标代理有限公司 | 代理人： | 刘香兰 |
| 地址： | 日本国福冈县北*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 【课题】提供一种利用相界面反应的反应生成物制备方法及相界面反应装置、以及二次反应生成物制备方法，该相界面反应能够以高效率使等离子体状的物质(臭氧、氮等离子体等)和水等进行反应；【解决方法】本发明涉及相界面反应装置(10)及利用相界面反应的反应生成物制备方法、以及使用反应生成物制备二次反应生成物的二次反应生成物制备方法，相界面反应装置(10)具备反应容器(11)、向反应容器(11)中供给等离子体状的物质的等离子体供给装置(12)、向反应容器(11)中供给水或水溶液的水/水溶液供给装置(13、19)、以及对反应容器(11)中的等离子体状的物质照射紫外线的紫外线照射装置(14)，并且，在反应容器(11)中，使等离子体状的物质和水或水溶液中所含的溶质在相界面上进行反应。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 界面 反应 生成物 制备 方法 装置 以及 二次 | ||
【主权项】：
1.一种利用相界面反应的氨的制备方法，其特征在于，/n包括：/n向反应容器中供给氮等离子体的等离子体供给工序，其中，该氮等离子体是通过向等离子体发生装置中供给氮气而生成，所述氮等离子体的生成场所不同于所述反应容器中的反应场；/n向所述反应容器中供给水或水溶液的水/水溶液供给工序，以及/n对所述反应容器中的所述氮等离子体照射紫外线的紫外线照射工序；/n所述相界面反应是在所述反应容器中使所述氮等离子体和所述水或所述水溶液中所含的溶质在相界面上进行反应，从而制备氨。/n
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