[发明专利]厚膜图案结构及其形成方法有效
| 申请号： | 201580035941.1 | 申请日： | 2015-07-01 |
| 公开（公告）号： | CN106471453B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 金龙焕;尹亿根;崔镕锡 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | G06F3/041 | 分类号： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所 11410 | 代理人： | 石宝忠 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及厚膜图案结构以及形成该厚膜图案结构的方法，其中重复进行层叠步骤，由此在形成过程中逐渐减小正在形成的厚膜图案的宽度，因此层叠相同的材料层，由此使得所有的层均已层叠的图案的边缘处的区域中的锥角减小。厚膜图案包括：具有任一图案宽度的厚膜图案涂层；以及依次层叠在该厚膜图案涂层上的不同的厚膜图案涂层，以致图案宽度从厚膜图案涂层的边缘区域逐渐减小，通过厚膜图案涂层形成的厚膜图案具有阶梯形状。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
一种厚膜图案结构，其包括：厚膜图案涂层，其具有图案宽度；以及顺序地堆叠在所述厚膜图案涂层上的多个厚膜图案涂层，以在厚膜图案涂层的边缘区域处具有逐渐减小的图案宽度，其中厚膜图案涂层提供具有阶梯形状的厚膜图案。
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