[发明专利]用于电介质膜的基于自由基的沉积的装置

摘要

本文所公开的实施方式总体包括一种用于电介质膜的基于自由基的沉积的装置。该装置包括：处理腔室；自由基源，所述自由基源被耦接到处理腔室；基板支撑件，所述基板支撑件设置在处理腔室中；以及双通道喷头，所述双通道喷头设置在自由基源与基板支撑件之间。双通道喷头包括多个管道和内部容积，所述内部容积围绕所述多个管道。多个管道和内部容积被嵌在双通道喷头中的一个或多个环形通道围绕。双通道喷头进一步包括：第一入口，所述第一入口被连接到所述一个或多个通道；以及第二入口，所述第二入口被连接到内部容积。处理腔室可以是PECVD腔室，并且该装置能够执行循环工艺(交替进行基于自由基的CVD和PECVD)。

主权项

一种装置，所述装置包括双通道喷头，其中所述双通道喷头包括：第一表面；第二表面，所述第二表面与所述第一表面相对并与所述第一表面间隔开以提供内部容积，其中所述双通道喷头中的一个或多个环形通道围绕所述内部容积；第一入口，所述第一入口被连接到所述一个或多个环形通道；第二入口，所述第二入口绕过所述环形通道，其中所述第二入口被连接到所述内部容积；以及多个管道，所述多个管道从所述第一表面穿过所述内部容积延伸到所述第二表面。