[发明专利]用于原位测量样本的蚀刻深度的辉光放电光谱方法和系统

摘要

本发明涉及一种辉光放电测谱法系统，该辉光放电测谱法系统包括辉光放电灯，辉光放电灯适于接纳固体样本(10)并且形成辉光放电蚀刻等离子体(19)。根据本发明，一种用于原位测量通过蚀刻样本(10)而产生的腐蚀凹口的深度的系统(100)包括：光学分离器(3)；光学装置(4)，其适于分别地将第一入射束(21)向着所述样本的第一区域(11)引导，所述第一区域暴露于所述蚀刻等离子体，并且将第二入射束(22)向着所述样本同一侧的第二区域(12)引导，所述第二区域免受蚀刻等离子体影响；以及光学重组装置(3)，其适于形成干涉测量束(30)，以确定腐蚀凹口的深度(d)。

主权项

1.一种用于原位测量样本的蚀刻深度的辉光放电测谱法系统，所述系统包括：/n-辉光放电灯，其适于接纳固体样本并且形成辉光放电蚀刻等离子体，所述样本在同一面上具有被暴露于所述蚀刻等离子体的第一区域和免受所述蚀刻等离子体影响的第二区域；/n-测谱仪，其耦合到所述辉光放电灯，所述测谱仪适于通过光学发射谱和/或通过质谱，测量根据所述第一区域暴露于所述等离子体的时间的代表所述辉光放电等离子体的至少一个信号；/n-根据暴露于所述等离子体的时间原位测量通过蚀刻所述样本的所述第一区域而产生的腐蚀凹口的深度的系统；/n其特征在于，测量所述腐蚀凹口的深度的所述系统包括：/n-光源，其适于发射光束；/n-光学分束器，其适于在空间上或成角度地将所述光束分成第一入射束和第二入射束；/n-所述辉光放电灯适于提供朝向所述第一区域的第一光学路径和朝向所述样本的所述第二区域的第二光学路径，所述辉光放电灯包括阳极，所述阳极具有第一轴向开口和相对于所述阳极的轴偏移的第二开口；/n-光学装置，其适于分别将所述第一入射束沿着所述第一光学路径向着所述第一区域引导并且将所述第二入射束沿着所述第二光学路径向着所述第二区域引导，以分别地通过在所述第一区域上的反射来形成第一反射束，通过在所述第二区域上的反射来形成第二反射束，所述第一轴向开口适于使所述第一入射束和所述第一反射束通过，所述第二开口适于使所述第二入射束和所述第二反射束通过；/n-光学重组装置，其适于重组所述第一反射束和所述第二反射束并且形成干涉测量束；/n-检测装置，其适于接收所述干涉测量束并且检测根据所述第一区域暴露于所述等离子体的时间的干涉测量信号；/n-处理装置，其适于处理所述干涉测量信号，以确定根据所述第一区域暴露于所述等离子体的时间的所述腐蚀凹口的所述深度(d)。/n