[发明专利]具有在高孔隙率基底上浸渍的铂的氨泄漏催化剂有效
申请号: | 201580031264.6 | 申请日: | 2015-05-08 |
公开(公告)号: | CN106457216B | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | J·菲德寇;H-Y·陈 | 申请(专利权)人: | 庄信万丰股份有限公司 |
主分类号: | B01J23/42 | 分类号: | B01J23/42;B01J23/44;B01J29/72;B01J35/10;B01D53/94 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 王刚 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了催化剂制品,其具有高孔隙率基底,在该高孔隙率基底的壁中含有铂、钯或其混合物,和在该高孔隙率基底的壁上的SCR催化剂涂层。该铂、钯或其混合物可以作为金属,或者作为负载的铂、钯或其混合物存在于该高孔隙率载体的壁中。该催化剂制品可用于将废气中的NOx选择性催化还原(SCR)和减少氨泄漏的量。描述了一种生产这种制品的方法。还描述了在SCR方法中使用该催化剂制品的方法,其中减少了氨泄漏的量。 | ||
搜索关键词: | 具有 孔隙率 基底 浸渍 泄漏 催化剂 | ||
【主权项】:
催化剂制品,其包含:(a)高孔隙率基底,在该高孔隙率基底的壁中包含铂、钯或其混合物,和(b)在该高孔隙率基底的壁上的SCR催化剂涂层,其中该铂、钯或其混合物作为金属,或者作为负载的铂、钯或其混合物存在于该高孔隙率载体的壁中。
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