[发明专利]含量子点的层叠体及其制造方法、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物有效
| 申请号： | 201580025679.2 | 申请日： | 2015-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN106457756B | 公开（公告）日： | 2019-01-11 |
| 发明（设计）人： | 米山博之;伊藤英明;小川朋成;国安谕司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B32B7/02 | 分类号： | B32B7/02;F21S2/00;F21V3/00;F21V3/04;G02F1/13357 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣;陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种含量子点的层叠体的制造方法、含量子点的层叠体、背光单元、液晶显示装置及含量子点的组合物。本发明的含量子点的层叠体的制造方法依次具有如下工序：将含有量子点、固化性化合物及触变剂且剪切速度500s‑1及1s‑1时的粘度为3～100mPa·s及300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序；在涂膜上层叠第2基材的工序；及对涂膜施加外部刺激而进行固化，形成含量子点的层的工序，并且生产性较高，可得到不发生涂布条纹的含量子点的层，且含量子点的层叠体的膜厚不均较小。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 层叠 及其 制造 方法 背光 单元 液晶 显示装置 组合 | ||
【主权项】：
1.一种含量子点的层叠体的制造方法，依次具有如下工序：将含有量子点、固化性化合物及触变剂，剪切速度为500s‑1时的粘度为3～100mPa·s，且剪切速度为1s‑1时的粘度为300mPa·s以上的含量子点的组合物涂布于第1基材上而形成涂膜的工序A；在所述涂膜上层叠第2基材的工序B；及对被所述第1基材及所述第2基材夹持的所述涂膜施加外部刺激而固化，形成含量子点的层的工序C。
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