[发明专利]铁硼合金涂层及其制备方法

摘要

本发明提供了用于无电沉积铁硼合金涂层的含水镀浴，特征在于它包含至少一种铁离子源、至少一种硼基还原剂、至少一种复合剂、至少一种pH缓冲剂和至少一种碱，其中它的pH值是11或更高并且所述含水镀浴中的硼基还原剂相对于铁离子的摩尔比是至少6:1。还有，公开了使用所述含水镀浴的方法。本发明的含水镀浴显示良好的稳定性和镀敷速率并在各种基底上产生光泽而均匀的铁硼合金涂层。所述镀浴的优点是它不需要任何牺牲阳极。

主权项

1.用于无电沉积铁硼合金涂层的含水镀浴，其特征在于它包含(i)至少一种铁离子源；(ii)至少一种硼基还原剂；(iii)至少一种螯合剂；(iv)至少一种pH缓冲剂；和(v)至少一种碱，其中所述含水镀浴的pH值是11或更高并且所述含水镀浴中的硼基还原剂与铁离子的摩尔比在6:1至10:1的范围内；其中所述含水镀浴包含选自镍离子或钴离子的第二种可还原金属离子源，其量基于存在于所述含水镀浴中铁离子的量为0.01摩尔%至10摩尔%，或者其中所述含水镀浴不含任何有意添加的其他可还原金属离子。