[发明专利]薄膜形成装置有效
申请号: | 201580020201.0 | 申请日: | 2015-02-23 |
公开(公告)号: | CN106232868B | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 山下雅充;阵田敏行;藤元高佳;宫下胜好 | 申请(专利权)人: | 东丽工程株式会社 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;于靖帅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种薄膜形成装置,该薄膜形成装置通过抑制一个制膜腔室中的薄膜材料气体进入其他制膜腔室,能够抑制所形成的薄膜的膜质的下降。即,该薄膜形成装置通过在使带状基材沿着主辊的外周面的状态下对带状基材进行输送并进行表面处理,由此在带状基材上形成薄膜,该薄膜形成装置以下述方式构成:其具备收纳主辊的主辊腔室以及在主辊的外径侧周向排列的多个制膜腔室,在所述间隔部上设置有将带状基材所移动的主辊的外周面覆盖的主辊罩,在该主辊罩上形成有与所述制膜腔室连通的制膜腔室连通部,将由所述主辊罩和主辊的外周面形成的主辊罩内的压力设定成比所述制膜腔室的压力高。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 形成 装置 | ||
【主权项】:
1.一种薄膜形成装置,在使带状基材沿着主辊的外周面的状态下对带状基材进行输送并进行表面处理,从而在带状基材上形成薄膜,其特征在于,该薄膜形成装置具备:主辊腔室,其收纳主辊;以及多个制膜腔室,通过在主辊的外径侧配置间隔部,从而在主辊的周向上排列该多个制膜腔室,在所述间隔部上设置有主辊罩,该主辊罩将带状基材所移动的主辊的外周面覆盖,在该主辊罩上形成有与所述制膜腔室连通的制膜腔室连通部,由所述主辊罩和主辊的外周面形成的主辊罩内的压力被设定成比所述制膜腔室的压力高。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东丽工程株式会社,未经东丽工程株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580020201.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:膜形成设备、基板处理设备和装置制造方法
- 下一篇:铁硼合金涂层及其制备方法
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的