[发明专利]基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法有效
申请号: | 201580017855.8 | 申请日: | 2015-03-31 |
公开(公告)号: | CN106133610B | 公开(公告)日: | 2017-12-29 |
发明(设计)人: | 加藤正纪;奈良圭;铃木智也;渡边智行;鬼头义昭;堀正和 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/24 | 分类号: | G03F7/24;G03F9/00;H01L21/68 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 陈伟,王娟娟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。 | ||
搜索关键词: | 处理 装置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种基板处理装置,其特征在于,具有:搬送装置,其一边通过旋转筒支承长条片状的基板的一部分,一边通过所述旋转筒绕中心线的旋转而使所述基板沿长度方向移动,其中,所述旋转筒具有相对于所述中心线以一定半径弯曲而成的圆筒状的外周面;和描绘装置,其具有多个描绘单元,该多个描绘单元向由所述外周面支承的所述基板上投射经调制的描绘光束,同时在与所述长度方向交叉的所述基板的宽度方向上以比该基板的宽度小的范围进行扫描,并沿着通过该扫描得到的描绘线描绘出规定的图案,将所述描绘装置中的所述多个描绘单元沿所述基板的宽度方向配置,以使得通过该多个描绘单元的各描绘线在所述基板上描绘出的图案彼此伴随着所述基板向长度方向的移动而在所述基板的宽度方向上接合在一起;移动测量装置,其包括标尺部和编码器读头,所述标尺部被设置成与所述旋转筒一起旋转并具有在相对于所述旋转筒的中心线具有规定半径的周向上形成的刻度,所述编码器读头与该标尺部的刻度相对地配置并用于输出与由所述搬送装置搬送的所述基板的移动量或移动位置相对应的移动信息;以及控制部,其预先存储有与所述描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从所述移动测量装置输出的所述移动信息来调整通过所述多个描绘单元各自的所述描绘光束而在所述基板上形成的图案的描绘位置,其中,所述描绘线是由所述多个描绘单元分别形成在所述基板上的。
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