[发明专利]基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及用于在基板上形成精细电子器件的构造体的基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法。

背景技术

以往，作为基板处理装置，已知有在片状介质(基板)上的规定位置进行描绘的制造装置(例如，参照专利文献1)。专利文献1中记载的制造装置通过对易在宽度方向上伸缩的挠性的长条片状基板检测对准标记来测量片状基板的伸缩，并根据伸缩来修正描绘位置(加工位置)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2010-91990号公报

发明内容

专利文献1的制造装置中，通过一边沿搬送方向搬送基板一边切换空间调制元件(DMD：Digital Micro mirror Device)来进行曝光，利用多个描绘单元在基板上描绘图案。专利文献1的制造装置中，利用多个描绘单元以使在基板的宽度方向上相邻的图案彼此接合的方式进行曝光，但是为了抑制接合曝光的误差，对进行测试曝光和显影而生成的接合部处的图案的位置误差的测量结果进行反馈。然而，这样的包含测试曝光、显影、测量等作业在内的反馈工序虽然也因其频率而异，但是会导致生产线临时停止，有可能降低产品生产率并且造成基板浪费。

本发明的方案是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供一种基板处理装置、器件制造方法及基板处理方法，即使使用多个描绘单元在基板的宽度方向上以接合图案的形式进行曝光(描绘)的情况下，也能够降低图案彼此的接合误差，高精度且稳定地在基板上描绘出大面积的图案。

根据本发明的第1方案，提供一种基板处理装置，具有：搬送装置，其一边通过具有弯曲的支承面的支承部件沿基板的长度方向支承长条片状的所述基板的一部分，一边使所述基板沿所述长度方向移动；和描绘装置，其具有多个描绘单元，该多个描绘单元向由所述支承面支承的所述基板上投射经调制的描绘光束，同时在与所述长度方向交叉的所述基板的宽度方向上以比该基板的宽度小的范围进行扫描，并沿着通过该扫描得到的描绘线描绘出规定的图案，所述描绘装置中的所述多个描绘单元沿所述基板的宽度方向配置，以使得通过该多个描绘单元的各描绘线在所述基板上描绘出的图案彼此伴随着所述基板向长度方向的移动而在所述基板的宽度方向上接合在一起；移动测量装置，其输出与基于所述搬送装置的所述基板的移动量或移动位置相对应的移动信息；以及控制部，其预先存储有与所述描绘线的相互的位置关系有关的校准信息，并且基于该校准信息和从所述移动测量装置输出的移动信息来调整通过所述多个描绘单元各自的所述描绘光束而在所述基板上形成的图案的描绘位置，其中，所述描绘线是由所述多个描绘单元分别形成在所述基板上的。

根据本发明的第2方案，提供一种器件制造方法，使用本发明的第1方案的基板处理装置来在所述基板上形成所述图案。

根据本发明的第3方案，为一种基板处理方法，在长条的片状基板上描绘出电子器件的图案，包括以下处理：沿所述片状基板的长度方向以规定速度输送所述片状基板；使从脉冲光源装置以频率Fz脉冲振荡出的紫外波段的光束在所述片状基板的表面聚集成点光，并且通过光扫描器使所述光束移动，由此使所述点光沿着在与长度方向交叉的宽度方向上延伸的长度LBL的描绘线进行扫描；以及在所述点光的扫描期间，基于与所述图案对应的描绘数据来对所述点光的强度进行调制，在将所述光束的1脉冲的聚光所形成的点光与下一脉冲的聚光所形成的点光之间沿所述描绘线的间隔设为CXs、将所述点光沿着所述描绘线的实效尺寸设为Xs、将所述点光扫描出所述长度LBL的扫描时间设为Ts时，被设定为满足以下关系：Xs＞CXs，并且，Fz＞LBL/(Ts·Xs)。

根据本发明的第4方案，为一种基板处理方法，在长条的片状基板上描绘出电子器件的图案，包括以下工序：沿所述片状基板的长度方向以规定速度输送所述片状基板的工序；使从脉冲光源装置以频率Fz脉冲振荡出的紫外波段的光束在所述片状基板的表面聚集成点光，并且使所述点光沿着在与所述片状基板的长度方向交叉的宽度方向上延伸的描绘线进行扫描的工序；以及在所述点光的扫描期间，基于将所述图案按像素单位分割得到的描绘数据，通过光切换元件对所述光束的强度进行调制的工序，将所述光切换元件的调制时的响应频率Fss和所述光束的脉冲振荡的频率Fz被设定为Fz＞Fss的关系。

发明效果