[发明专利]用于大面积沉积的小掩模铺设技术

摘要

在物理气相沉积(PVD)方法中，在相同沉积室或容器中可以经由第一数量的阴影掩模将呈第一布置的多个材料图案沉积在基板的不同部分上，或者可以使用相同的阴影掩模一次将一个图案沉积在基板的不同部分上。在另一沉积室或容器中可以经由第二数量的阴影掩模将呈第二布置的多个材料图案沉积在基板的部分上。呈第二布置的多个材料图案的各个材料图案被沉积为不与呈第一布置的多个材料图案中的一个材料图案重叠。

主权项

一种物理气相沉积(PVD)方法，包括：(a)提供沉积容器，所述沉积容器内部具有：基板；阴影掩模，其包括孔图案；以及多个材料沉积源，其位于所述沉积容器的不同位置，其中，在俯视图中，所述阴影掩模的面积小于所述基板的面积；(b)在所述沉积容器中将所述阴影掩模定位在所述多个材料沉积源的第一材料沉积源与所述基板的第一部分之间；(c)在步骤(b)之后，将来自所述多个材料沉积源的所述第一材料沉积源的材料经由所述阴影掩模的所述孔图案沉积在所述基板的所述第一部分上；(d)在步骤(c)之后，在所述沉积容器中将所述阴影掩模重新定位在所述多个材料沉积源的另一材料沉积源与所述基板的另一部分之间；以及(e)在步骤(d)之后，将来自所述多个材料沉积源的所述另一材料沉积源的材料经由所述阴影掩模的所述孔图案沉积在所述基板的所述另一部分上。