[发明专利]传感器系统、衬底输送系统和光刻设备有效
申请号: | 201580012769.8 | 申请日: | 2015-03-02 |
公开(公告)号: | CN106104382B | 公开(公告)日: | 2018-06-26 |
发明(设计)人: | J·洛夫;J·考夫曼;M·D·N·彼得斯;P·T·吕特格尔斯;M·H·W·斯道派欧;G·范德艾克曼;H·K·范德舒特;R·维瑟 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明涉及一种被配置用于确定具有边缘(WE)的衬底(W)的位置的传感器系统(PSS)。所述传感器系统包括:被布置用于发射辐射束(LB)的辐射源(LS),反射元件(RE),检测器装置(DD)和具有用于支撑衬底的支撑表面的衬底台(PWT)。所述支撑表面至少部分地沿着一个平面。辐射源和检测器装置布置于平面的第一侧上。反射元件布置于平面的除第一侧以外的第二侧上。所述反射元件被布置用于通过反射辐射束来形成反射束。所述反射元件被布置用于用所述反射束来照射所述边缘。所述检测器装置被布置用于接收所述反射束。 | ||
搜索关键词: | 反射元件 传感器系统 检测器装置 反射 辐射源 支撑表面 平面的 衬底 衬底输送系统 发射辐射 反射辐射 光刻设备 衬底台 照射 配置 支撑 | ||
【主权项】:
1.一种被配置用于确定具有边缘的衬底的位置的传感器系统,包括:辐射源,布置用于发射辐射束;反射元件;检测器装置;成像系统;衬底台,具有用于支撑所述衬底的支撑表面,其中所述支撑表面至少部分地沿着一个平面,其中所述辐射源和所述检测器装置布置于所述平面的第一侧上,其中所述反射元件布置于所述平面的除所述第一侧以外的第二侧上,其中所述反射元件被布置用于通过反射所述辐射束来形成第一反射束,其中所述反射元件被布置用于用所述第一反射束来照射所述边缘,其中所述检测器装置被布置用于接收所述第一反射束,其中所述成像系统被布置用于传播所述第一反射束以便将所述边缘的图像投影到所述检测器装置上,且其中,所述传感器系统包括标记,所述标记被布置用于通过反射所述辐射束来形成第二反射束,其中所述成像系统被布置用于传播所述第二反射束以便将所述标记的图像投影到所述检测器装置上。
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