[发明专利]层叠膜及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201580011584.5 申请日: 2015-03-04
公开(公告)号: CN106104310B 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 久光聪史;畠沢翔太;小沼太朗 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B1/111 分类号: G02B1/111
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 苗堃;赵雁
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供对于在基材的一面设置有含表面活性剂层、在另一面设置有硬涂层的构成的层叠膜而言能抑制硬涂层的裂纹产生且提高硬涂层的耐擦伤性的方法。在具有基材、配置于基材的一面的含有表面活性剂的含表面活性剂层、和配置于基材的另一面的硬涂层的层叠膜中,在硬涂层中以0.001~3质量%的量含有(甲基)丙烯酰改性有机硅化合物。
搜索关键词: 层叠 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种层叠膜,其特征在于,具有:基材,配置于所述基材的一面的含有表面活性剂的含表面活性剂层,和配置于所述基材的另一面的硬涂层;所述硬涂层以0.001~3质量%的量含有(甲基)丙烯酰改性有机硅化合物,所述硬涂层含有无机纳米粒子,所述硬涂层中的所述无机纳米粒子的含量为10~80质量%,所述含表面活性剂层为低折射率层与高折射率层交替层叠而成的电介质多层膜。
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