[实用新型]用于水下探测的大深度测量仪的薄膜基阵结构有效

专利信息
申请号: 201521118472.3 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN205301578U 公开(公告)日: 2016-06-08
发明(设计)人: 华瑞平;朱皓 申请(专利权)人: 海鹰企业集团有限责任公司
主分类号: G01S7/521 分类号: G01S7/521
代理公司: 北京天平专利商标代理有限公司 11239 代理人: 宋方园
地址: 214061 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型的用于水下探测的大深度测量仪的薄膜基阵结构,包括顶座、前壳和底座,前壳上方与顶座固定连接,前壳下方与底座固定连接,所述前壳内设有空腔,空腔通过钢膜密封,在空腔内安装有铝板,铝板上设有若干个通孔,空腔在真空状态下填满油。本实用新型的用于水下探测的大深度测量仪的薄膜基阵结构,钢膜与前壳采用焊接方式进行密封,并采用油填充圆柱孔,保证密封装置中压力的稳定性及均匀性,具有大深度、高精度、稳定性强、寿命长、一体化等特点,便于大深度水下高精度、高稳定测量的应用需求。
搜索关键词: 用于 水下 探测 深度 测量仪 薄膜 结构
【主权项】:
一种用于水下探测的大深度测量仪的薄膜基阵结构,其特征在于:包括顶座、前壳和底座,前壳上方与顶座固定连接,前壳下方与底座固定连接,所述前壳内设有空腔,空腔通过钢膜密封,在空腔内安装有铝板,铝板上设有若干个通孔,空腔在真空状态下填满油。
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