[实用新型]抗蚀剂层的薄膜化装置有效
| 申请号： | 201521089940.9 | 申请日： | 2015-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN205263469U | 公开（公告）日： | 2016-05-25 |
| 发明（设计）人： | 丰田裕二;后闲宽彦;中川邦弘 | 申请（专利权）人： | 三菱制纸株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 崔幼平;李婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本实用新型的课题在于提供一种抗蚀剂层的薄膜化装置，即使从薄膜化处理单元向胶束除去处理单元带入的薄膜化处理液量增多，也能够防止胶束除去液的pH过度上升，解决抗蚀剂层的薄膜化处理量不均匀的问题。抗蚀剂层的薄膜化装置具备：通过薄膜化处理液使形成在基板上的抗蚀剂层中的成分胶束化的薄膜化处理单元，和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元，其特征在于，胶束除去处理单元具有胶束除去液喷雾泵及pH传感器，通过该胶束除去液喷雾泵，向基板上的抗蚀剂层供给胶束除去液，该pH传感器配置在能够监控从基板上流下后的胶束除去液的pH的位置。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂层 薄膜 化装 | ||
【主权项】：
一种抗蚀剂层的薄膜化装置，具备：通过薄膜化处理液使形成在基板上的抗蚀剂层中的成分胶束化的薄膜化处理单元，和通过胶束除去液将胶束除去的胶束除去处理单元，其特征在于，胶束除去处理单元具有胶束除去液喷雾泵及pH传感器，通过该胶束除去液喷雾泵，向基板上的抗蚀剂层供给胶束除去液，该pH传感器设置在能够监控从基板上流下后的胶束除去液的pH的位置。
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