[实用新型]离子注入装置有效
| 申请号： | 201521074217.3 | 申请日： | 2015-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN205319120U | 公开（公告）日： | 2016-06-15 |
| 发明（设计）人： | 胡明;陈浩 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 王刚;龚敏 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型的离子注入装置，包括用于发生离子束的离子源、质量分析单元、遮挡单元和基板，质量分析单元设置于离子束发射方向上，且质量分析单元的入口与离子束相对，对射入质量分析单元进行分选，质量分析单元的侧壁上还设置有分析狭缝，离子束经过分选后射出质量分析单元；遮挡单元设置于质量分析单元上，且与分析狭缝共处于同一侧壁上，遮挡单元可紧贴侧壁移动，能够遮挡经由分析狭缝射出的离子束；基板设置于与分析狭缝相对的位置；本实用新型的离子注入装置通过在质量分析单元的分析狭缝处设置遮挡单元，来调整射出分析狭缝的离子束的宽度，从而调整射出分析狭缝的离子束剂量，从而实现了连续离子注入过程中对注入剂量进行自动调整。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 注入 装置 | ||
【主权项】：
一种离子注入装置，其特征在于，包括用于发生离子束的离子源、质量分析单元、遮挡单元和基板，其中，所述质量分析单元设置于所述离子束发射方向上，且所述质量分析单元的入口与所述离子束相对，所述质量分析单元的侧壁上还设置有用于离子束射出的分析狭缝；所述遮挡单元滑动地设置于所述质量分析单元上，且与所述分析狭缝处于同一侧壁；所述基板设置于与所述分析狭缝相对的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司，未经昆山国显光电有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201521074217.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
