[实用新型]一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室有效
申请号: | 201520666090.8 | 申请日: | 2015-08-31 |
公开(公告)号: | CN204898067U | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 曹锦鹏;杨川;张自成 | 申请(专利权)人: | 英利能源(中国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;H01L31/18;H01L31/0216 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 苏英杰 |
地址: | 071051 河*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室,涉及PECVD技术领域,其包括真空泵和设备腔室,真空泵和设备腔室通过抽气管道连接,抽气管道上设有过滤器,过滤器将抽气管道分为两段,与设备腔室连接的一段为第一抽气管道,与真空泵连接的一段为第二抽气管道。本装置通过过滤器对进入真空泵的气体进行过滤,能够对各种渣粒粉尘进行充分拦截,保护真空泵免受伤害,从而防止真空泵卡死,延长了真空泵的使用寿命,并保证了减反射膜沉积工序的正常运行,提高了生产效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 系统 pecvd 工艺设备 | ||
【主权项】:
一种带有抽气系统的PECVD工艺设备腔室,其包括真空泵(2)和设备腔室(1),真空泵(2)和设备腔室(1)通过抽气管道连接,其特征在于:抽气管道上设有过滤器(4),过滤器(4)将抽气管道分为两段,与设备腔室(1)连接的一段为第一抽气管道(31),与真空泵(2)连接的一段为第二抽气管道(32)。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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