[实用新型]一种纯离子真空电弧镀膜设备

摘要

本实用新型公开了一种纯离子真空电弧镀膜设备，包括阴极靶材、接地阳极、过滤器和真空腔室内设置的在其表面进行镀膜的基片，阴极靶材为石墨靶材，过滤器的管壁与+20V偏压电源相连接，接地阳极和过滤器之间设置有环形绝缘垫板，环形绝缘垫板内设置有环形的绝缘挡环。通过在过滤器的管壁上施加正偏压，使得管道壁处的电势增加，排斥正电荷离子束流，使原本荷质比较小、螺旋半径较大的离子也能通过过滤器，从而提高了沉积速率。另外，通过设置绝缘挡环，使得等离子体在激发后无法直接沉积在环形绝缘垫板的内环壁面上，避免环形绝缘垫板被熔融烧坏和延长环形绝缘垫板的维护周期，提高生产效率和沉积较厚的纳米薄膜。

主权项

一种纯离子真空电弧镀膜设备，其特征在于：包括阴极靶材、接地阳极、过滤器和真空腔室内设置的在其表面进行镀膜的基片，阴极靶材为石墨靶材，过滤器的管壁与+20V偏压电源相连接，接地阳极和过滤器之间设置有环形绝缘垫板，环形绝缘垫板内设置有环形的绝缘挡环；绝缘挡环的截面为L形，绝缘挡环包括环管和环管下端外围设置的环板，环板固定在环形绝缘垫板的下板面与接地阳极的上表面之间，环管的高度与环形绝缘垫板的厚度相吻合。