[实用新型]一种纯离子真空电弧镀膜设备有效
| 申请号： | 201520542572.2 | 申请日： | 2015-07-24 |
| 公开（公告）号： | CN204982040U | 公开（公告）日： | 2016-01-20 |
| 发明（设计）人： | 张心凤;郑杰;尹辉 | 申请（专利权）人： | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 离子 真空 电弧 镀膜 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种纯离子真空电弧镀膜设备，其特征在于：包括阴极靶材、接地阳极、过滤器和真空腔室内设置的在其表面进行镀膜的基片，阴极靶材为石墨靶材，过滤器的管壁与+20V偏压电源相连接，接地阳极和过滤器之间设置有环形绝缘垫板，环形绝缘垫板内设置有环形的绝缘挡环；绝缘挡环的截面为L形，绝缘挡环包括环管和环管下端外围设置的环板，环板固定在环形绝缘垫板的下板面与接地阳极的上表面之间，环管的高度与环形绝缘垫板的厚度相吻合。
2.根据权利要求1所述的纯离子真空电弧镀膜设备，其特征在于：环形绝缘垫板的内环壁面上开设有环形槽，环形槽沿环形绝缘垫板的厚度方向间隔设置。
3.根据权利要求1所述的纯离子真空电弧镀膜设备，其特征在于：过滤器为磁场强度1200Gs的过滤器，基片与-600V偏压电源相连接。
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