[实用新型]真空灭弧室有效
| 申请号： | 201520341656.X | 申请日： | 2015-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN204577329U | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 吴或龙 | 申请（专利权）人： | 浙江森光电气科技有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 325608 浙江省温州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种真空灭弧室，旨在提供一种能够保证密封性的真空灭弧室，其技术方案要点是包括顶盖和陶瓷绝缘壳，其特征在于，所述顶盖设有凸环,所述陶瓷绝缘壳设有与凸环相配合的凹槽,所述凹槽设有密封机构,所述密封机构包括与所述凸环外侧壁抵接的密封圈，所属陶瓷绝缘壳设有供密封圈插入固定的固定槽。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 灭弧室 | ||
【主权项】：
一种真空灭弧室，包括顶盖和陶瓷绝缘壳，其特征在于，所述顶盖设有凸环,所述陶瓷绝缘壳设有与凸环相配合的凹槽,所述凹槽设有密封机构,所述密封机构包括与所述凸环外侧壁抵接的密封圈，所属陶瓷绝缘壳设有供密封圈插入固定的固定槽。
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