[实用新型]真空灭弧室有效
申请号: | 201520341656.X | 申请日: | 2015-05-23 |
公开(公告)号: | CN204577329U | 公开(公告)日: | 2015-08-19 |
发明(设计)人: | 吴或龙 | 申请(专利权)人: | 浙江森光电气科技有限公司 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 325608 浙江省温州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空 灭弧室 | ||
1.一种真空灭弧室,包括顶盖和陶瓷绝缘壳,其特征在于,所述顶盖设有凸环,所述陶瓷绝缘壳设有与凸环相配合的凹槽,所述凹槽设有密封机构,所述密封机构包括与所述凸环外侧壁抵接的密封圈,所属陶瓷绝缘壳设有供密封圈插入固定的固定槽。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:所述密封圈内侧壁设有分别与凸环端面和凹槽地面相抵接的垫圈部。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室,其特征在于:所述密封圈设有与陶瓷绝缘壳固定的凸块和与顶盖固定的固定环,所述凸环设有与固定环相配合的固定槽,所述陶瓷绝缘壳设有与凸块配合的让位槽。
4.根据权利要求1所述的真空灭弧室,其特征在于:所述密封圈为二苯醚亚苯基硅橡胶制成。
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