[实用新型]一种气流均匀分散装置

摘要

一种气流均匀分散装置，包括支架，其特征在于：所述的支架的两侧设有固定卡，所述的支架的外侧从上到下设有通气孔，所述的通气孔间的间距从上到下依次减小，所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大。优选的，所述的支架内通过固定架固定有挡流板。本实用新型的有益效果在于：在传统的镀膜设备上加装本实用新型提供的气流均匀分散装置，对进入镀膜设备的气流进行分散处理，为镀膜设备内部提供均匀的气流，保证3D-Wafer晶元硅通孔涂层的均匀稳定性。

主权项

一种气流均匀分散装置，包括支架，其特征在于：所述的支架的两侧设有固定卡，所述的支架的外侧从上到下设有通气孔，所述的通气孔间的间距从上到下依次减小，所述的通气孔的开口的大小从上到下依次增大;以保证上下流阻趋于一致，气流经过支架后均匀分散。