[实用新型]一种硅片清洗设备有效
| 申请号： | 201520249710.8 | 申请日： | 2015-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN204564642U | 公开（公告）日： | 2015-08-19 |
| 发明（设计）人： | 洪育林;张震;安冠宇;李文文;刘凯 | 申请（专利权）人： | 武汉宜田科技发展有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/10;B08B13/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 438400 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例公开了一种硅片清洗设备，该硅片清洗设备包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。实施本实用新型实施例，具有如下有益效果：本实用新型的硅片清洗设备在上料台上安装有喷淋装置，不间断的向硅片喷淋纯水，避免了硅片由于在上料台上放置时间过长导致的氧化，保证了清洗质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种硅片清洗设备，其特征在于，其包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。
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