[实用新型]一种硅片清洗设备

权利要求书

1.一种硅片清洗设备，其特征在于，其包括上料台、喷淋装置和硅片清洗机；所述上料台与所述硅片清洗机入口端连接，所述喷淋装置至少部分位于所述上料台的上方，以对所述上料台上的硅片进行喷淋。

2.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗机包括依次设置的纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽和烘干隧道，所述纯水清洗槽远离所述加清洗剂清洗槽的一端连接所述上料台。

3.如权利要求2所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述纯水清洗槽包括依次设置的第一纯水清洗槽和第二纯水清洗槽；所述加清洗剂清洗槽包括依次设置的第一加清洗剂清洗槽和第二加清洗剂清洗槽；所述纯水漂洗槽包括依次设置的第一纯水漂洗槽、第二纯水漂洗槽和第三纯水漂洗槽；所述第一纯水清洗槽连接所述上料台，所述第二纯水清洗槽连接所述第一加清洗剂清洗槽，所述第二加清洗剂清洗槽连接所述第一纯水漂洗槽，所述第三纯水漂洗槽连接所述烘干隧道。

4.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置数量是一个，且至少部分位于上料台正上方。

5.如权利要求4所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置包括喷淋头以及为与所述喷淋头连接并进行供水的水管，所述喷淋头设置于所述上料台的正上方。

6.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置数量是两个，在上料台上方两侧对称分布。

7.如权利要求1所述的一种硅片清洗设备，其特征在于，所述喷淋装置为至少三个，均匀设置于所述上料台周围，且至少每个所述喷淋装置的部分设置 于所述上料台的上方。