[实用新型]一种玻璃光罩黑缺陷去除装置有效
申请号: | 201520198660.5 | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN204479906U | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 广州市仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510730 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,包括:用于放置玻璃光罩的具有桥梁结构的移动平台、用于观察玻璃光罩黑缺陷的显微系统、用于发射激光的激光发生器,以及用于供应激光发生器电源的激光电源系统。本实用新型所述一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,通过设置龙门式三坐标移动平台、自由切换倍率的显微系统、激光发生器和激光控制器,实现通过激光光斑高温气化去除玻璃光罩黑缺陷的功能。克服了背景技术中所述通过蚀刻液手动去除玻璃光罩黑缺陷可操作性差且容易造成玻璃光罩黑缺陷周围有效图形损伤的弊端。 | ||
搜索关键词: | 一种 玻璃 光罩黑 缺陷 去除 装置 | ||
【主权项】:
一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,其特征在于,所述装置包括:用于放置玻璃光罩的具有桥梁结构的移动平台、安装于所述移动平台的所述桥梁结构上面的显微系统、安装于所述显微系统上面的激光发生器,以及通过电源线与所述激光发生器连接的激光电源系统。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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