[实用新型]一种玻璃光罩黑缺陷去除装置有效
申请号: | 201520198660.5 | 申请日: | 2015-04-03 |
公开(公告)号: | CN204479906U | 公开(公告)日: | 2015-07-15 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 广州市仕元光电有限公司 |
主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 510730 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 玻璃 光罩黑 缺陷 去除 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及玻璃光罩技术领域,尤其涉及一种玻璃光罩黑缺陷去除装置。
背景技术
玻璃光罩photomask,也称铬版,是指在玻璃基板材料上溅射一层金属涂层然后覆盖一层表面光阻最后通过曝光显影蚀刻脱膜相关工序制作各种金属图形线路,以便用于感光胶涂层选择性曝光的一种结构。
由于玻璃光罩在制作过程中受某些因素影响,在透光区域内会产生残余金属铬形成非有效图形,此类形成阻光的非有效图形统称玻璃光罩黑缺陷,包括黑点、毛刺、连线。形成此类缺陷的主要因素系表面光阻上面或者里面含有颗粒类杂志导致此区域表面光阻残留,最终导致玻璃光罩黑缺陷的产生,影响玻璃光罩的使用。因此,现有技术中,针对玻璃光罩黑缺陷的产生,通常是通过使用表面光阻对玻璃光罩黑缺陷周围有效金属图形进行覆盖保护,然后通过棉签蘸蚀刻液涂抹到玻璃光罩黑缺陷表面,通过化学分解的方法去除。
但是,由于表面光阻为液态物质,在手动对玻璃光罩黑缺陷周围有效图形进行覆盖保护时可操作性非常差,极易把玻璃光罩黑缺陷一同覆盖,导致玻璃光罩黑缺陷无法去除干净。同时蚀刻液也是液态物质,在使用时极易对玻璃光罩有效金属图层造成损伤。因此通过蚀刻液化学分解方法去除玻璃光罩黑缺陷的方法可操作性差,且极易对玻璃光罩有效图形造成损伤,危险系数高。
发明内容
为此,本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,以克服现有技术中通过蚀刻液化学分解玻璃光罩黑缺陷方法的不足。
本实用新型提供了一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,包括:用于放置玻璃光罩的具有桥梁结构的移动平台、安装于所述移动平台的所述桥梁结构上面的显微系统、安装于所述显微系统上面的激光发生器,以及通过电源线与所述激光发生器连接的激光电源系统。
其中,所述装置还包括一个激光控制器,所述激光控制器通过信号连接线与所述激光电源系统实现连接。
所述装置还包括一个热交换器系统,所述热交换器系统通过循环水管实现与所述激光电源系统的连接。
本实用新型所述一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,通过设置龙门式三坐标移动平台、自由切换倍率的显微系统、激光发生器和激光控制器,实现通过激光光斑高温气化去除玻璃光罩黑缺陷的功能。克服了背景技术中所述通过蚀刻液手动去除玻璃光罩黑缺陷可操作性差且容易造成玻璃光罩黑缺陷周围有效图形损伤的弊端。
附图说明
图1为本实施例所述一种玻璃光罩黑缺陷去除装置结构示意图。
具体实施方式
下面,结合附图对本实用新型进行详细描述。
如图1所示,本实施例提供了一种玻璃光罩黑缺陷去除装置,该装置包括:用于放置玻璃光罩20的具有桥梁结构(图中未标示)的移动平台11、安装于移动平台20的桥梁结构上面的显微系统12、安装于显微系统12上面的激光发生器13,以及通过电源线31与激光发生器13连接的激光电源系统21,激光电源系统21为激光发生器13提供高压电流用于激发激光17,激光发生器13所发出的激光17通过显微系统12照射出来。
其中,所述装置中移动平台11为龙门式结构,即有一个沿竖直方向(即图1中的上下方向)自由移动的平台11,此平台通过伺服马达配合直线滚珠丝杆实现自由移动,桥梁结构(图中未标示)上面安装显微系统12,通过伺服马达配合直线滚珠丝杆实现显微系统12沿水平方向(即图1中的左右方向)的自由移动,最终实现显微系统12可以查找并且观察玻璃光罩20黑缺陷的功能。
所述装置中激光发生器13通过电源线31与激光电源系统21实现连接,激光控制器22通过信号线33与激光电源系统21实现连接,通过调节激光控制器22,实现对激光光斑大小和能量的调节,进而实现通过激光光斑高温气化去除玻璃光罩黑缺陷的功能。
所述装置还包括:一个热交换器系统23,热交换器系统23通过循环水管32实现与激光电源系统21的连接,激光电源系统21又通过循环水管32实现与激光发生器13的连接,最终热交换器系统23通过水冷式内循环的方式实现对激光电源系统21和激光发生器13的降温散热,保证激光发生器13的稳定运行。
所述装置中激光发生器13,其类型为YAG 固态激光器,用于去除玻璃光罩黑缺陷激光17的波长为1064nm,激光17最大发射能量为30mj,与激光发生器13连接并供应其电源的激光电源系统21的输入电压为AC 100 V。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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