[发明专利]超薄磁屏蔽片材料及其制备方法有效
| 申请号： | 201511021314.0 | 申请日： | 2015-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN105669179B | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 周少雄;董帮少;张广强;阎有花;李宗臻;谢琰军;戚雯 | 申请（专利权）人： | 安泰科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F1/36 | 分类号： | H01F1/36;C04B35/26;B28B1/24;B28B1/26 |
| 代理公司： | 北京五洲洋和知识产权代理事务所(普通合伙) 11387 | 代理人： | 刘春成;荣红颖 |
| 地址： | 100081 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种超薄磁屏蔽片材料及其制备方法。该超薄磁屏蔽片材料由铁氧体、粘接剂、添加剂、表面活性剂制成，厚度为0.001‑0.08mm；具体制备步骤包括：配料、混料、一次球磨、压制成块、预烧结、二次球磨、制浆、喷涂、二次烧结，最终得到的超薄磁屏蔽片在13.56MHz下的复数磁导率为μ’＝70‑200，μ”≤3。该方法制备工艺简单可靠，成材率高，节能环保，且磁片厚度可以根据性能需求自由控制；采用该方法制备的超薄磁片，具有优良的磁屏蔽性能，符合电磁复合材料轻薄化、功能化、节能环保趋势的发展要求，能够满足触控屏、电子印刷等进一步加工设计需求。 | ||
| 搜索关键词： | 超薄 屏蔽 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种超薄磁屏蔽片材料，其特征在于，所述超薄磁屏蔽片材料由铁氧体、粘接剂、添加剂、表面活性剂制成；所述表面活性剂的质量为所述铁氧体的总质量的0.2‑0.5％；所述粘接剂的质量为所述铁氧体的总质量的5‑20％；所述粘接剂为水溶性粘接剂；所述超薄磁屏蔽片材料厚度为0.001‑0.08mm；所述超薄磁屏蔽片材料的制备方法包括：将浆料喷涂到承烧板上，以得到所需厚度的铁氧体片。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安泰科技股份有限公司，未经安泰科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201511021314.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
