[发明专利]晶片的加工方法在审

专利信息
申请号: 201511005752.8 申请日: 2015-12-29
公开(公告)号: CN105789125A 公开(公告)日: 2016-07-20
发明(设计)人: 植木笃 申请(专利权)人: 株式会社迪思科
主分类号: H01L21/78 分类号: H01L21/78;H01L21/268;B23K26/53
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 李辉;于靖帅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供晶片的加工方法。晶片由硅构成,在正面上通过多条分割预定线划分而形成有多个器件,该方法具有:波长设定步骤,将对于晶片具有透过性的脉冲激光束的波长设定为1300nm~1400nm的范围;改质层形成步骤,将脉冲激光束的聚光点定位在晶片的内部而从晶片的背面对与分割预定线对应的区域照射脉冲激光束,对保持机构与激光束照射机构相对地加工进给,在晶片的内部形成改质层;分割步骤,对晶片施加外力而以改质层为分割起点沿着分割预定线分割晶片。改质层形成步骤包含如下步骤:照射每1脉冲的能量比较小的第一脉冲激光束而形成第一改质层;以及照射每1脉冲的能量比较大的第二脉冲激光束而与第一改质层重叠地形成第二改质层。
搜索关键词: 晶片 加工 方法
【主权项】:
一种晶片的加工方法,通过激光加工装置对晶片进行加工,所述晶片由硅构成,且在正面上通过多条分割预定线划分而形成有多个器件,所述激光加工装置具有:保持机构,其保持被加工物;激光束照射机构,其照射对于该保持机构所保持的被加工物具有透过性的波长的脉冲激光束而在被加工物的内部形成改质层;以及加工进给机构,其对该保持机构与该激光束照射机构相对地进行加工进给,该晶片的加工方法的特征在于,具有如下的步骤:波长设定步骤,将对于晶片具有透过性的脉冲激光束的波长设定为1300nm~1400nm的范围;改质层形成步骤,在实施该波长设定步骤之后,将脉冲激光束的聚光点定位在晶片的内部而从晶片的背面对与该分割预定线对应的区域照射脉冲激光束,并且对该保持机构与该激光束照射机构相对地进行加工进给,而在晶片的内部形成改质层;以及分割步骤,在实施该改质层形成步骤之后,对晶片施加外力而以该改质层为分割起点沿着该分割预定线分割晶片,该改质层形成步骤包含如下的步骤:第一改质层形成步骤,照射第一脉冲激光束而形成第一改质层,所述第一脉冲激光束的每1脉冲的能量是抑制裂纹形成的第一值;以及第二改质层形成步骤,照射第二脉冲激光束而与该第一改质层重叠地形成第二改质层,所述第二脉冲激光束的每1脉冲的能量是比该第一值大的第二值。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社迪思科,未经株式会社迪思科许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201511005752.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top