[发明专利]一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法

摘要

本发明属于流体力学流动控技术领域，具体涉及一种将零质量射流激励器阵列化并对对剪切层、大分离流场进行主动流动控制的方法。本发明所提出的方法通过将零质量射流激励器进行阵列，组成阵列喷流区，通过对喷流激励频率、喷流激励时序和喷流整体几何特征的控制，改善剪切层、大分离流场(例如空穴流动)，并可针对宽泛的来流速度范围(不可压缩流动、可压缩流动)和变化的来流角度调整灵活调整喷流参数，达到流动控制的目的。

主权项

一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法，被控制对象上安装基于零质量射流的阵列，阵列中每个零质量射流单元均产生一种频率可变化的间断射流，包括以下步骤：第一步，采集被控制对象在流场中的迎角α和侧滑角β，通过阵列解算，得出需要工作的喷口布置矩阵[K]；第二步，采集被控制对象流场的来流速度V∞和流体密度ρ∞，通过零质量射流激励频率解算，得到一个基准激励频率f0；第三步，将第一、二步得到的喷口布置矩阵[K]、迎角α、侧滑角β和基准激励频率f0通过直接控制量解算，得到用于整个零质量激励器阵列控制的时序差矩阵[Δt]和频率矩阵[f]，阵列采用上述的两个矩阵进行工作。