[发明专利]一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法

权利要求书

1.一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法，被控制对象上安装基于零质量射流的阵列，阵列中每个零质量射流单元均产生一种频率可变化的间断射流，包括以下步骤：

第一步，采集被控制对象在流场中的迎角α和侧滑角β，通过阵列解算，得出需要工作的喷口布置矩阵K；

第二步，采集被控制对象流场的来流速度V_∞和流体密度ρ_∞，通过零质量射流激励频率解算，得到一个基准激励频率f₀；

第三步，将第一、二步得到的喷口布置矩阵K、迎角α、侧滑角β和基准激励频率f₀通过直接控制量解算，得到用于整个基于零质量射流的阵列控制的时序差矩阵Δt和频率矩阵f，阵列采用上述的两个矩阵进行工作。

2.如权利要求1所述的一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法，其特征是，频率矩阵f是在基准激励频率f₀的基础上，阵列中每个射流单元根据几何位置和来流条件所需的不同激励频率进行微调得到。

3.如权利要求1所述的一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法，其特征是，时序差矩阵Δt是在解算出频率矩阵f的同时，为了形成涡环叠加效应，阵列中具有相同激励频率射流单元所采用的相位矩阵。

4.如权利要求1-3之一所述的一种基于零质量射流的阵列可变参数喷流流动控制方法，其特征是，还包括：第四步，实时调参，在目标流场区域布置传感器，通过基于梯度的调参方法或者是人工智能算法，对所有控制参数进行实时调节，达到最优的控制效果。