[发明专利]多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法有效
| 申请号： | 201510922190.7 | 申请日： | 2015-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN105388545B | 公开（公告）日： | 2018-06-26 |
| 发明（设计）人： | 李晓天;卢禹先;于海利;唐玉国;马振予;齐向东;糜小涛;于宏柱;张善文;巴音贺希格 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 长春菁华专利商标代理事务所(普通合伙) 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法属于平面衍射光栅制作领域，目的在于解决现有技术存在的难以实现米级以上大尺寸光栅的精密刻划和光栅刻划效率低的问题。本发明以下步骤：步骤一：将n套刻划系统以相等的间距D并行安装于主机座上；步骤二：将用于光栅转刃实验的光栅基底安装在光栅基底承载工作台上，对n套刻划系统中的光栅刻刀进行转刃实验；步骤三：将用于光栅预刻划实验的光栅基底安装在光栅基底承载工作台上，进行光栅预刻划实验，得到第2到第n块子光栅相对于第1块子光栅的刻线位置误差E2、E3……En；步骤四：根据步骤三中得到的第2到第n块子光栅相对于第1块子光栅的刻线位置误差E2、E3……En进行光栅母板刻划。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 子光栅 刻划 光栅刻划 刻刀 基底安装 基底承载 刻划系统 刻线位置 控制式 转刃 并行 平面衍射光栅 并行安装 光栅母板 主机座 干涉 相等 精密 制作 | ||
【主权项】：
1.多个光栅刻刀并行干涉控制式光栅刻划方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤一：将n套刻划系统(5)以相等的间距D并行安装于主机座(3)上，每套刻划系统(5)的刻划刀架(506)上设置有压电执行器(505)、位置测量干涉计(503)和参考反射镜(507)；步骤二：将用于光栅转刃实验的光栅基底安装在光栅基底承载工作台(2)上，对n套刻划系统(5)中的光栅刻刀(508)进行转刃实验；步骤三：将用于光栅预刻划实验的光栅基底安装在光栅基底承载工作台(2)上，进行光栅预刻划实验，得到第2到第n块子光栅相对于第1块子光栅的刻线位置误差E2、E3……En；步骤四：根据步骤三中得到的第2到第n块子光栅相对于第1块子光栅的刻线位置误差E2、E3……En进行光栅模板刻划，具体步骤为：1)根据步骤三中得到的第2至第n块子光栅相对于第1块子光栅的刻线位置误差，计算得到n块子光栅的各刻线理想位置的计算表达式分别为：k×d、k×d‑E2……k×d‑En‑1、k×d‑En，其中k为当前刻线数，d为光栅栅距；2)准备光栅刻划条件，将每套刻划系统(5)上的压电执行器(505)的位置设置在其总行程的一半位置处，将n套刻划系统(5)中的刻划刀架(506)移动至刻划的起始位置，将n套刻划系统(5)中的位置测量干涉计(503)的读数清零；将用于光栅母版刻划的光栅基底固定在光栅基底承载工作台(2)上；3)根据光栅刻划总长度Gw设置n套刻划系统(5)中光栅刻刀(508)对应的刻划长度，开始刻划；4)在光栅每条刻线刻划过程中，采用n个位置测量干涉计(503)分别测量各自的参考反射镜(507)与对应的测量反射镜(4)之间的相对位置；并根据n个位置测量干涉计(503)的测量结果，分别实时调节n个压电执行器(505)的位置；5)当n套刻划系统(5)刻划的子光栅完成步骤3)中设置的刻划长度后，停止光栅刻划。
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