[发明专利]芯片接合薄膜、切割/芯片接合薄膜及半导体装置在审

专利信息
申请号: 201510901642.3 申请日: 2012-08-03
公开(公告)号: CN105505244A 公开(公告)日: 2016-04-20
发明(设计)人: 大西谦司;盛田美希;宍户雄一郎 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: C09J7/02 分类号: C09J7/02;C09J133/08;C09J11/08;C09J11/04;H01L21/683;H01L23/29
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 王海川;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及芯片接合薄膜、切割/芯片接合薄膜及半导体装置。本发明提供即使在高温下长时间暴露也可以减少芯片接合薄膜与被粘物的边界处空隙的产生的芯片接合薄膜。一种芯片接合薄膜,其特征在于,含有含腈基热固性丙烯酸类共聚物和固化剂,使用差示量热计,以10℃/分钟的升温速度从25℃到300℃进行测定时的放热量为10mJ/mg以下。
搜索关键词: 芯片 接合 薄膜 切割 半导体 装置
【主权项】:
一种芯片接合薄膜,其中,含有含腈基热固性丙烯酸类共聚物和固化剂,使用差示量热计,以10℃/分钟的升温速度从25℃到300℃进行测定时的放热量为10mJ/mg以下,所述含腈基热固性丙烯酸类共聚物含有环氧基,并且环氧值为0.1eq/kg以上且1eq/kg以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201510901642.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top